| 日本材料科学会主催
平成27年度学術講演大会プログラム |
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| 日 時 | 平成27年6月5日(金) 8：40～16：40 |
| 主 催 | 日本材料科学会 (東京都千代田区四番町8-1 （株）裳華房内) |
| 会 場 | 工学院大学 高層棟3階 アーバンテックホール（新宿キャンパス） (東京都新宿区西新宿1-24-2) |
| 参 加 費 | 一般（会員・協賛） 6,000円 一般（非会員） 10,000円 学生（会員） 2,000円 学生（非会員） 3,000円 なお，講演キャンセルの場合，参加費の全額を申し受けます． |
| プログラム | |
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口頭発表：12分（講演8分＋質疑応答3分＋交代1分） 午前1 口頭発表 8：40～10：04 （7件） ◎は若手奨励賞審査対象者 01 反応性スパッタリング法により作製されたCu2O/NiO/TiO2太陽電池の効率改善 （*工学院大院，**工学院大）◎土屋友一*，鷹野一朗** 02 N2+イオンアシストにより作製した金属添加DLC薄膜の電気抵抗制御 （*工学院大院，**工学院大）◎井上剛志*，鷹野一朗** 03 反応性スパッタリング法による酸化タンタル薄膜の作製と特性評価 （*工学院大院，**工学院大）◎相馬俊也*，鷹野一朗** 04 蒸着重合系PI薄膜の気体の吸着・透過特性 （金沢大院）◎平野皓一，野村浩平，山部健悟，石川和宏，山田良穂 05 熱CVDによるg-C3N4膜の作製 （*千葉工大院，**千葉工大）◎田中一平*，坂本幸弘** 06 高密度プラズマアシスト蒸着により作製したSiO2およびNb2O5光学薄膜の光学的・機械的特性に与える基板温度の影響 （*日東光学㈱，**関東学院大院，***関東学院大 材料・表面工学研）◎森泉 康*,**，本間英夫***，高井 治**,*** 07 Al2O3-HfO2共晶系耐環境皮膜の作製 （*日大，**物材機構）◎瀬谷恭佑*，張 炳國**，上野俊吉* 午前2 口頭発表 10：10～11：34 （7件） ◎は若手奨励賞審査対象者 08 電子部品用ホウ素フリーニッケルめっきの開発 （都産技研）◎浦崎香織里，土井 正 09 UV処理を用いたポリエーテルエーテルケトン上への無電解めっき （*関東学院大院，**関東学院大 材料・表面工学研，***関東学院大）◎中林祐稀*,**，梅田 泰**，田代雄彦**，本間英夫**，香西博明**,*** 10 選択的表面改質による樹脂上への微細金属パターン形成 （*関東学院大院，**関東学院大 材料・表面工学研）◎堀内義夫*,**，鈴木陽平*,**，Christopher E.J. Cordonier**，盧 柱亨**，本間英夫**，高井 治*,** 11 ほう素フリーNi-P合金浴から得られた皮膜の特性評価 （*関東学院大院，**ラフネック，***関東学院大）◎佐藤啓太*，寺田正佳**，松井和則***，山下嗣人*** 12 スルファミン酸ニッケル合金電析皮膜の特性に与える光沢剤の影響 （*関東学院大院，**㈱三ツ矢，***関東学院大）◎長島正憲*，吉田宗典**，山下嗣人*** 13 スルファミン酸ニッケル合金めっき皮膜におよぼすハロゲンイオンの影響 （*㈱三ツ矢，**関東学院大院，***関東学院大）◎吉田宗典*，長島正憲**，山下嗣人*** 14 Thermal Behavior and Mechanical Properties of Y2SiO5 Coatings after Isothermal Heat Treatment （*Kookmin Univ., **Institute of Ceramics and Glass, ***NIMS, ****Korea Institute of Ceramic Engineering and Technology）◎Fan-jie FENG*，Kee-Sung LEE*，Garcia Granados EUGENIO**，Byung-koog JANG***, Seongwon KIM****, Yoon-Suk OH****, Sung-Min LEE****, Hyung-Tae KIM* 総会 11：45～12：30 ポスターセッション発表者1分間プレゼンテーション 12：30～13：10 ポスターセッション 13：10～14：40 （40件） ◎は若手奨励賞審査対象者 15P Microstructures and Physical Properties of Reaction-Bonded Silicon Carbides with a Variety of SiC Size （*Korea Institute of Ceramic Engineering and Technology, **Inocera Inc.）○Seongwon KIM*, Yoon-Suk OH*, Sung-Min LEE*, Yoonsoo HAN*, Hyung-Tae KIM*, Hyun-Ick SHIN**, Youngseok KIM** 16P RFスパッタリングで作製した非晶質窒化ホウ素の耐酸化性に及ぼす投入電力の影響 （千葉工大）〇花井 亮，城谷友保，坂本幸弘 17P 熱フィラメントCVDによる窒素含有ダイヤモンドの作製 （千葉工大）〇中田朋貴，田中一平，坂本幸弘 18P 無電解白金めっき皮膜の電気化学的特性比較 （*関東学院大院，**関東学院大 材料・表面工学研，***松田産業㈱）○水橋正英*,**,***， Christopher E.J. Cordonier **，本間英夫 **，高井 治*,** 19P ZrO2-CaZrO3共晶系耐環境皮膜の作製 （*日大，**物材機構）◎古川裕貴*，張 炳國**，上野俊吉* 20P 共晶ガラスの結晶化を利用したYb2Si2O7-Mullite共晶皮膜の作製 （*日大，**物材機構）◎居城奈菜美*，張 炳國**，上野俊吉* 21P 高速度工具鋼に被覆したDLC膜の密着性の及ぼす軟窒化処理の影響 （千葉工大）◎菊池佑介，坂本幸弘 22P 超硬合金上のCVDダイヤモンド膜の密着性に及ぼす前処理の影響 （千葉工大）◎服部貴大，千葉俊之，坂本幸弘 23P 反応性スパッタリングで作製したヨウ化チタン膜の評価 （*千葉工大院，**千葉工大）◎藤巻果織*，坂本幸弘** 24P 裏面電極型太陽電池の作製方法 （成蹊大院）◎林 秀俊，岩間恵人，渡邊良祐，齋藤洋司 25P テクスチャ化単結晶シリコン基板へのスピンコート法による反射防止膜の形成と光学的特性 （成蹊大院）◎真利子岳比郎，矢部俊一，山田拓也，渡邊良祐，齋藤洋司 26P 単結晶シリコン基板へのミスト法による反射防止膜の形成 （成蹊大院）◎矢部俊一，真利子岳比郎，山田拓也，渡邊良祐，齋藤洋司 27P ポリベンゾオキサジンフィルムの炭素化と特性評価 （豊橋技科大院）◎大澤 翼，高橋吉騎，柴山祐二，河内岳大，松本明彦，竹市 力 28P LSXゼオライト中の陽イオンサイト数とCO2吸着性の相関 （豊橋技科大院）◎安藤彰吾，篠木 剛，松本明彦 29P 表面修飾活性炭への吸着を利用した硫化水素の除去 （豊橋技科大院）◎井上あかね，松本明彦 30P ミクロカロリメトリーを用いたLSXゼオライトへの二酸化炭素吸着特性化 （豊橋技科大院）◎長谷川惠一，松本明彦 31P 磁場中スリップキャストによるTi2AlN配向体と特性評価 （*東理大院，**物材機構）◎武舍翔太郎*,**，鈴木 達**，藤本憲次郎*，目 義雄** 32P 化学構造を変えたエポキシ樹脂の熱劣化と寿命予測 （東工大院）◎味戸貴志，久保内昌敏，志村俊樹，黒川英人 33P 反応溶融含浸法によるC/C-超耐熱セラミック材の試作 （*東海大院，**JAXA，***東海大）◎和田寿也*，矢野友規*，青木卓哉**，小笠原俊夫**，岩森 暁*** 34P 溶融混錬法を用いて作製したPLLA/PDLAイオン伝導性高分子ブレンドの構造と物性 （東工大院）◎比嘉南斗，赤坂修一，浅井茂雄 35P RFパルスプラズマCVD法によるSiO:CH微粒子形成におけるパルス条件の影響 （*千葉工大院，**千葉工大，***関東学院大 材料・表面工学研）◎小池 遼*，井上泰志*,**，高井 治*** 36P メゾスコピック構造化InN薄膜の非水電解質溶液におけるエレクトロクロミック特性 （*千葉工大院，**千葉工大，***関東学院大 材料・表面工学研）◎枡川尊重*，井上泰志*,**，高井 治*** 37P 斜め堆積スパッタリングにおける気相中散乱効果のモンテカルロシミュレーション （*千葉工大院，**千葉工大，***関東学院大 材料・表面工学研）◎仲尾昌浩*，井上泰志*,**，高井 治*** 38P 陽極酸化時における電流密度がメゾスコピックSiロールに与える影響 （*東京電機大，**日本電子㈱）◎清水友貴*，田口貴稔*，鈴木俊明**，丹羽雅昭*，本橋光也* 39P 高周波グロー放電プラズマの位相制御とメゾスコピックSiへの処理効果 （東京電機大）◎田口貴稔, 坂元飛鳥, 今泉拓哉, 清水友貴, 幸谷 智, 丹羽雅昭, 本橋光也 40P 静電インクジェットで作製した薄膜の色素増感型太陽電池への応用 （*東海大院，**早大）◎小川真史*，関彩希江*，岩森 暁*，功刀義人*，梅津信二郎** 41P ポリテトラフルオロエチレン（PTFE）を原材料とした真空蒸着膜の光学特性 （*東海大総理研，**東海大工，***東海大理）◎大西康貴*，長島朋弘**，喜多理王*,***，槌谷和義*,**，岩森 暁*,** 42P 活性酸素による高分子材料の表面特性評価 （*東海大院，**東海大）◎渡邊亮太*，細谷和輝**，大家 渓**，岩森 暁*,** 43P 紫外光を遮断した紫外光励起活性酸素による芳香族高分子材料の低ダメージ表面改質プロセスと薄膜の密着性 （*東海大院，**東海大）◎西山信人*，渡邊亮太*，林 正浩**，岩森 暁*,** 44P 紫外光励起活性酸素曝露による細胞培養基板の改質と滅菌の同時処理技術の検討 （*東海大院，**東海大）◎細谷和輝*，大家 渓**，岩森 暁*,** 45P 紫外光照射および活性酸素曝露によるチタンの表面改質 （*東海大院，**東海大，***工学院大）◎真田章弘*，細谷和輝*，大家 渓**，岩森 暁**，木村雄二*** 46P 水の光触媒酸化反応に対するLaTiO2N結晶のフラックス窒化プロセスの効果 （*信州大院理工，**信州大工，***信州大環エネ研）◎川嶋健太*，我田 元**，Hojamberdiev Mirabbos**，手嶋勝弥**,*** 47P 47P 全固 体型LIB電極材料に向けた活物質結晶／ガラス電解質界面の低接触抵抗化検討 （*信州大院理工，**信州大環エネ研，***信州大工，****JST-CREST）◎宮越達也*，是津信行**,***,****，松本充博***，小野寺仁志***，手嶋勝弥**,***,**** 48P Ba5Nb4O15結晶の形状・サイズに及ぼすフラックス種の影響 （*信州大学大学院理工学系研究科環境機能工学科専攻，**信州大環境・エネルギー材料科学研究所，***信州大学工学部環境機能工学科，****信州大学）◎村田幸紀*，山田哲也**，我田 元***，大石修治*****，手嶋勝弥**,*** 49P 一次元H2T3O7結晶の加熱脱水処理にともなう構造変化解析 （*信州大院理工学，**信州大環エネ研，***信州大，****JST-CREST）◎今堀利生*，是津信行**,***,****，手嶋勝弥**,***,**** 50P ソリューションプラズマの安定性に対する気泡形成過程の影響 （*名大院，**名大グリモ，***未来社会創造機構，****JST-CREST）◎簾 智仁*，上野智永*,****，齋藤永宏 *,**,***,**** 51P ソリューションプラズマによるカーボン合成における細孔構造制御 （名大院）◎吉田彰仁 52P Exploring Ion-Sieve Property of Flux-Grown Li5La3Ta2O12Crystals （*Interdisciplinary Graduate School of Science and Technology, Shinshu University, **Faculty of Engineering, Shinshu University, ***Center for Energy and Environmental Science, Shinshu Univeristy, ****Shinshu University）○Xiong Xiao*, Fumitaka Hayashi**,Hajime Wagata**, Hitoshi Onodera**, Nobuyuki Zettsu**,***, Shuji Oishi****, Katsuya Teshima**,*** 53P フラックス法を用いた多孔性H1.6Mn1.6O4結晶の育成 （*信大工，**信大，***信大環エネ研）○林 文隆*，黒川翔一*，大石修治**，手嶋勝弥*,*** 54P 誘導ラマン散乱光干 渉計による撥水機能性材料の表面化学計測 （東京理科大院）○高橋すみれ，大森絵梨，近藤隆之，伴野元洋，由井宏治 午後 口頭発表 14：50 ～ 16：26 （8件） 55 Synthesis of Transparent and Conducting Fluorine-Doped Tin Oxide Thin Films Based on 1-D Nanostructures （*GSST, Shizuoka Univ.，**Univ. Peradeniya, SL，***GSE, Shizuoka Univ.）○Ajith Bandara*，R.M.G. Rajapakse**，Kenji Murakami*** 56 Intensity Comparison of Conventional and Laboratory Synthesized Mechanoluminescent Materials （*GSST, Shizuoka Univ.，**Univ. Peradeniya, SL，***GSE, Shizuoka Univ.）○R.A.D.M. Ranasinghe*，R.M.G. Rajapakse**，O.A.Illeperuma**，Kenji Murakami*** 57 Optical Properties of Ce3+:(Y1-xGdx)3Al5O12 Single-Crystals for High-Brightness White LEDs/LDs （*NIMS，**Waseda Univ.，***Tamura Co. Ltd.，****Koha Co. Ltd）○Stelian Arjoca*,**，Encarnacion G. Villora*，Daisuke Inomata***,****，Kazuo Aoki****，Yoshiyuki Sugahara**，Kiyoshi Shimamura*,** 58 非経験的シミュレーションによる遷移金属表面へのN2分子の吸着活性の推定と仕事関数 （*慶應大院 基礎理工学専攻，**慶應大院 開放環境科学専攻）○木下拓郎*，澁谷泰蔵**，的場正憲*，神原陽一* 59 擬ポテンシャル法を用いたB-doped SiCの高圧下相安定性 （慶応大院）○日比野拓，後藤陽介，神原陽一，的場正憲 60 アルミニウム基材へのメッキ及び硬質薄膜コーティングによる耐摩耗性への影響 （*ナノテック㈱，**ABB㈱）○平塚傑工*，坪井仁美*，中森秀樹*，浜村武広** 61 中真空成膜法によるDLCコーテッドEPDM（エチレン・プロピレンゴム）の表面形態および摩擦・摩耗特性 （関東学院大院）◯藤邨克之，高井 治，村木正芳，中村健太 62 金-鉄浴からの電気接点材料用硬質金めっきの特性評価 （*㈱三ツ矢，**関東学院大）○若杉憲治*，尾家義明*，山下嗣人** 表彰式 16：30～16：40 | |
| 問 合 先 |
日本材料科学会 学術講演大会係 〒102-0081 東京都千代田区四番町8-1（株）裳華房内 TEL 03-3262-9166 FAX 03-3262-7257 E-mail mssj＠shokabo.co.jp ※ ＠は半角にして下さい． |
| 若手奨励賞 | 受賞者 |
| 口頭発表部門 | 7． 瀬谷 恭佑（日本大学） 「Al2O3-HfO2共晶系耐環境皮膜の作製」 |
| 8． 浦崎 香織里（東京都立産業技術研究センター） 「電子部品用ホウ素フリーニッケルめっきの開発」 |
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| ポスター発表部門 | 21P． 菊池 佑介（千葉工業大学） 「高速度工具鋼に被覆したDLC膜の密着性の及ぼす軟窒化処理の影響」 |
| 31P． 武舍 翔太郎（東京理科大学） 「磁場中スリップキャストによるTi2AlN配向体と特性評価」 |
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| 33P． 和田 寿也（東海大学） 「反応溶融含浸法によるC/C-超耐熱セラミック材の試作」 |
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| 39P． 田口 貴稔（東京電機大学） 「高周波グロー放電プラズマの位相制御とメゾスコピックSiへの処理効果」 |
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| 40P． 小川 真史（東海大学） 「静電インクジェットで作製した薄膜の色素増感型太陽電池への応用」 |
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| 50P． 簾 智仁（名古屋大学） 「ソリューションプラズマの安定性に対する気泡形成過程の影響」 |