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日本材料科学会主催
平成22年度学術講演大会プログラム |
| 日 時 | 平成22年6月4日(金) | |
| 主 催 | 日本材料科学会 (東京都千代田区四番町8-1 （株）裳華房内) | |
| 会 場 | 工学院大学 高層棟3階 アーバンテックホール（新宿キャンパス）
(東京都新宿区西新宿1-24-2) | |
| 参 加 費 | 一般 5,000円（含予稿集代） 登壇学生(院，学部) 3,000円（含予稿集代）
登壇学生以外 1,500円（含予稿集代） | |
| プログラム | ||
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口頭発表：12分（講演8分＋質疑応答4分） 午前 9:00 ～ 11:00 （10件） 01 光アイソレーター用TSLAG結晶の育成と評価 （株式会社フジクラ，物質・材料研究機構*）○畑中 翼，船木秋晴，直江邦浩，アナスタシヤ・ ラティニナ*，鬼頭孝幸*，ガルシア・ビジョラ*，島村清史* 02 オゾン環境下におけるポリアセタールコポリマーの電気特性に与える湿度条件の影響 （東京工業大学大学院理工学研究科，ABB株式会社*，日本大学生産工学部**）○浜村武広， 久保内昌敏，青木才子，吉田 治*，江島光彦*，酒井哲也** 03 層状チタン酸塩による分子認識的光触媒反応 （広島大学大学院工学研究科，早稲田大学教育・総合科学学術院*）○井出裕介，中里友梨*， 小川 誠* 04 アルキル基，フェニル基で表面修飾した層状ケイ酸塩へのアルキルフェノール混合水溶液からの ノニルフェノールの選択的吸着 （早稲田大学大学院創造理工学研究科，広島大学大学院工学研究科*）○岩崎祥太，井出 裕介*，小川 誠 05 Czochralski growth of Gd1-xYbxF3 single crystals and their properties （National Inst. for Materials Science (NIMS)，Inst. for Scintillation Materials (ISMA), Ukraine*） ○V. Vasyliev，E.G. Villora，P. Molina，N. Shiran*，K. Shimamura 06 付着蛋白質除去効率を指標とした透析装置用各種洗浄剤の評価 （工学院大学工学部）○佐藤宜伯，木村雄二 07 金属的領域が混在する半導体薄膜のvan der Pauw測定における各測定値の検討 （秋田大学大学院工学資源学研究科）○松村 透，佐藤祐一 08 Mn(2.25-X)FeXNi0.75O4（0≦X≦2.25）立方晶スピネル型酸化物焼結体の作製とその電気的特性 （横浜国立大学大学院工学府，横浜国立大学工学部*，横浜国立大学大学院環境情報 工学府**）○横山 隆，森本章嗣*，岡崎慎司，伊藤大輔，小柴佑介，目黒竹司** 09 傾斜蒸着法による酸化チタンのナノ構造体作製 （物質･材料研究機構材料信頼性センター）○土佐正弘，Y.Pihosh，後藤真宏，笠原 章 10 熱間金型用合金工具鋼への高炭素高速度鋼のレ－ザ肉盛特性 （職業能力開発総合大学校精密機械システム工学科，中国職業能力開発大学校生産技術科*， 千葉工業大学機械サイエンス学科**）○片岡義博，芦中辰也，宮﨑俊行 ポスターセッション発表者1分間プレゼンテーション 11:10 ～ 11:35（25件） （総会12:15 ～ 13:00） ポスターセッション 13:00 ～ 14:30（25件） 11P グラフェンナノリボンの電子的特性の第一原理計算 （電気通信大学大学院情報理工学研究科）○花田俊匡，新谷一人 12P グラフェンのインデンテーションの分子動力学解析 （電気通信大学大学院情報理工学研究科）○吉村共裕，新谷一人 13P クエン酸塩を添加したアルカリ浴からのマグネシウム合金陽極酸化皮膜の作製 （千葉工業大学大学院工学研究科，千葉工業大学*）○佐久間陽介，坂本幸弘* 14P Caustic 法によるマグネシウム合金陽極酸化皮膜の接着特性 （千葉工業大学大学院工学研究科，千葉工業大学*）○髙井 学，坂本幸弘* 15P 炭酸ナトリウム浴を用いて作製したマグネシウム合金陽極酸化皮膜の組成と熱特性 （千葉工業大学大学院工学研究科，千葉工業大学*）○西井彰宏，坂本幸弘* 16P ラジカル窒化によるTiO2の表面改質 （千葉工業大学大学院工学研究科，千葉工業大学*）○田中美帆，坂本幸弘* 17P 大気圧プラズマを用いたベンゼン分解の電極材料依存性 （成蹊大学大学院理工学研究科）○岩村俊明，岩村泰明，長田真人，齋藤洋司 18P タンタルドープ酸化バナジウム膜を用いたボロメータ型赤外線センサの作製工程の検討 （成蹊大学大学院理工学研究科）○宇賀神秀，佐藤亮太，蓜島伸隆，齋藤洋司 19P 三フッ化塩素ガスを用いた単結晶Si太陽電池のテクスチャ処理の検討 （成蹊大学大学院理工学研究科）○三田隆裕，幸畑隼人，門馬 正，齋藤洋司 20P FeCrAl合金上に生成するアルミナスケールのSEMによる観察 （湘南工科大学マテリアル工学科，ダイプラ・ウィンテス株式会社*，金沢大学**）○大内晴彦， 古賀寛行，佐竹智成，田中貴之，天野忠昭，西山逸雄*，岩森 暁** 21P FeCrAl合金上に生成するアルミナスケールのTEMによる観察 （湘南工科大学マテリアル工学科，東北大学百万ボルト電顕室*，東北大学金属材料研究所**） ○真壁秀明，阿部雄太，増田 悟，天野忠昭，青柳英二*，宍戸統悦** 22P Ca-α-SiAlON:Eu/SiO2コンポジット膜の蛍光特性 （東京都市大学大学院工学研究科*，物質・材料研究機構ナノセラミックスセンター**）○北畠 拓哉*，**，打越哲郎**，宗像文男*，目 義雄**，広崎尚登** 23P Ni-P-PTFE複合めっき皮膜の機能特性 （関東学院大学大学院工学研究科，関東学院大学工学部*）○今井美樹，出口美和子，武田 俊哉*，山下嗣人* 24P Mn含有水酸化ニッケルの充放電特性と構造解析 （関東学院大学大学院工学研究科，関東学院大学工学部*）○後藤未来，佐々木康*，山下嗣人* 25P 多結晶シリコン太陽電池の水素パッシベーションにおけるバイアス電圧効果の研究 （成蹊大学大学院理工学研究科）○當舎昌樹，佐野英之，幸畑隼人，長屋雅士，門馬 正，齋藤 洋司 26P LBIC測定システムの製作と多結晶シリコン太陽電池の評価 （成蹊大学大学院理工学研究科）○春山智史，澁谷恵治，幸畑隼人，門馬 正，齋藤洋司 27P 熱フィラメントCVD法を用いたホウ素ドープダイヤモンド薄膜形成における初期核密度の 検討 （成蹊大学大学院理工学研究科）○星野彩華，大島一勲，根津慶太，齋藤洋司 28P 電析法による水酸化ニッケル活物質の調製におよぼす緩衝剤の影響 （関東学院大学大学院工学研究科，関東学院大学工学部*）○難波恭平，佐々木康*，山下嗣人* 29P Ni-Pナノ多層膜の特性評価および機能発現機構 （関東学院大学大学院工学研究科，関東学院大学工学部*）○谷口健太，山下嗣人* 30P シリコンナノウォールの作製とその形成メカニズム （東京電機大学工学部）○中路義久，渡辺晃次，仲田英起，丹羽雅昭，本橋光也 31P 陽極酸化法を用いて作製したナノSiの構造評価 （東京電機大学工学部）○安藤 光，福家 優，中路義久，本橋光也，本間和明 32P Ar-N2系およびAr-NH3系スパッタガスを用いたRF反応性スパッタリングによるBN膜の作製 （千葉工業大学大学院工学研究科，千葉工業大学*）○今宮麻衣，坂本幸弘* 33P マイクロ波プラズマCVDによる異なる基板材質へのBドープダイヤモンドの作製 （千葉工業大学大学院工学研究科，千葉工業大学*）○柴野悠基，坂本幸弘* 34P マイクロ波プラズマCVDによる低基板温度での窒化炭素の作製におけるバイアス支援核形成に 及ぼすCH4濃度の影響 （千葉工業大学大学院工学研究科，千葉工業大学*）○萩原正悟，坂本幸弘* 35P 熱フィラメントCVDによる固体ホウ素源を用いたCVDダイヤモンド基板上へのBドープダイヤモン ドの合成 （千葉工業大学大学院工学研究科，千葉工業大学*）○李 崇基，坂本幸弘* 午後 口頭発表 13:45 ～ 16:54 （15件） 13:45 ～ 15:21 36 Si/MnSi1.7積層膜の作製と磁気的性質の評価 （慶應義塾大学大学院理工学研究科）○藤田悠介，太田英二 37 耐熱合金の耐高温酸化性とスケール表面並びにスケール/合金界面形態 （湘南工科大学マテリアル工学科）○天野忠昭 38 電子輸送層にBCPを用いた有機EL素子の作製と評価 （慶應義塾大学大学院理工学研究科）○藤田隼人，五十嵐裕樹，太田英二 39 トンネル磁気抵抗効果のためのFePt微粒子グラニュラーの電気的評価 （慶應義塾大学大学院理工学研究科）○多木 剛，三谷祐介，太田英二 40 Preparation of Cobalt Doped DSC using Spray Pyrolysis Deposition (SPD) Technique （Graduate School of Science and Technology, Shizuoka University，Research Institute of Electronics, Shizuoka University*）○M.K. Ahmad，K. Murakami* 41 ニッケルめっき皮膜の構造に及ぼす浴中の微量金属不純物の影響 （関東学院大学大学院工学研究科*，関東学院大学工学部**，株式会社三ツ矢***）○尾家 義明*,***，山下嗣人**，若杉憲治*** 42 The evolution of the dielectric properties of Ca12Al14O33 with temperature （National Institute for Materials Science，Institut de Chimie de la Matiere Condensee de Bordeaux (ICMCB/CNRS)*）○Elias Castel，Tong Ik Shin，Mario Maglione*，Encarnacion G. Villora，Kiyoshi Shimamura 43 活性酸素照射による表面殺菌処理の基礎検討 （岩崎電気株式会社，産業技術総合研究所*，東海大学工学部**）○松本裕之，吉野 潔，星野 紗代，坂井徳浩，岩崎達行，木下 忍，野田和俊*，岩森 暁** 15:21 ～ 15:30 休憩 9分 15：30 ～ 16：54 44 電析皮膜の特性におよぼす腐食抑制剤の影響 （関東学院大学大学院工学研究科，関東学院大学工学部*）○鈴木章浩，櫻井清仁，山下嗣人* 45 Polyimide系蒸着薄膜の作製と特性評価 （金沢大学大学院自然科学研究科，金沢大学工学部*，産業技術総合研究所**）○長田幸輔， 杉本亮祐，倉田昌彦*，岩森 暁，野田和俊** 46 ダイヤモンドライクカーボン薄膜片混練によるコンポジットの作製と物性 （慶應義塾大学大学院理工学研究科）○白石嵩人，堀田 篤 47 アミノ酸を用いた新規水素結合型自己修復材料の物性評価 （慶應義塾大学大学院理工学研究科，東京大学大学院工学系研究科*）○藤井 淳，磯部 元洋*，下嶋 敦*，大久保達也*，堀田 篤 48 一次元配列シリカナノ粒子の構造形成とその粘弾性挙動 （慶應義塾大学大学院理工学研究科，東京大学大学院工学系研究科*）○松本規寛，菅原 彩絵*，嘉数恵美里*，下嶋 敦*，大久保達也*，堀田 篤 49 焼結式ニッケル正極におけるメモリー効果の解析 （関東学院大学大学院工学研究科，関東学院大学工学部*）○松本裕隆，佐々木康*，山下嗣人* 50 液中分子ジェットの発現メカニズムの解明 （物質・材料研究機構次世代太陽電池センター*，物質･材料研究機構材料信頼性センター**） ○後藤真宏*,**，笠原 章**，土佐正弘** | ||
| 問 合 先 |
日本材料科学会 学術講演大会係
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平成22年度講演募集