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日本材料科学会主催
平成18年度学術講演大会プログラム |
| 日 時 | 平成18年5月26日(金) | |
| 主 催 | 日本材料科学会 (東京都千代田区四番町8-1 （株）裳華房内) | |
| 会 場 | 東京工業大学(東京都目黒区大岡山2-12-1) | |
| 参 加 費 | 4,000円（含予稿集代） 但し，登壇学生(院，学部)は3,000円 (私費参加学生は2,000円，登壇学生以外は無料)予稿集代1,000円 | |
| プログラム | ||
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口頭発表：12分（講演8分＋質疑応答4分） 午前 8:45 ～ 11:17 （12件） 8:45 ～ 9:57 01 樹脂固体中に浸入した環境液の中空糸膜による除去 （東京工業大学大学院）○後藤誠裕，酒井哲也，久保内昌敏，津田健 02 クエン酸浴を用いたNi-P多層膜の作製と構造解析 （関東学院大学大学院，関東学院大学*）○西本洋道，山下嗣人* 03 Pd-Co合金皮膜の多層化が特性に与える影響 （関東学院大学大学院，㈱山王* 関東学院大学**）○楠記暢，岩城泰彦*，山下嗣人** 04 コネクタ部SnめっきにおけるWhiskerの発生挙動の把握とその抑制法の検討 （工学院大学大学院，工学院大学*）○竹下勇輝，木村雄二* 05 スパッタリング法により付与したTiN薄膜の耐食性改善を目的とした製膜条件の検討 （工学院大学大学院，工学院大学*）○大類唯史，木村雄二* 06 WCを分散したステライトのレ－ザ肉盛 （職業能力開発総合大学校，中国職業能力開発大学校*，千葉工業大学**）○片岡義博， 芦中辰也*，宮﨑俊行** 9:57 ～ 10:05 休憩 8分 10:05 ～ 11:17 07 熱フィラメントCVDによるダイヤモンド合成における基板位置およびガス導入位置の影響 （千葉工業大学大学院，千葉工業大学*，大亜真空㈱**）○渡邊一永，坂本幸弘*，高谷松文*， 宇田川啓**，中田洋一**，井上英明**，冨江崇** 08 13.56MHz RF電源を用いた熱プラズマCVDによるダイヤモンド合成 （千葉工業大学大学院，千葉工業大学*，日本高周波㈱**，東京大学名誉教授***） ○鬼沢光一郎，坂本幸弘*，高谷松文*，木山信道**，神田稔**，篠原己拔**，明石和夫*** 09 マイクロ波プラズマCVDによる異なるCH4濃度でのダイヤモンド合成 （千葉工業大学大学院，千葉工業大学*，大亜真空㈱**）○高見義人，坂本幸弘*，羽田成也， 高谷松文*，中田洋一**，冨江崇**，井上英明** 10 ラジカル窒化および軟窒化による表面硬化 （千葉工業大学研究生，千葉工業大学*）○伊藤孝弘，坂本幸弘*，高谷松文* 11 薄板の面外せん断荷重による破壊に関する研究 （東京大学大学院）○柿内利文, 関根政直, 藤本浩司, 塩谷義 12 ねじり振子による金属およびセラミックスの内部減衰特性 （東京大学）○関根政直, 藤本浩司, 塩谷義 ポスターセッション発表者1分間プレゼンテーション 11:20 ～ 11:50（30件） ポスターセッション 12:30 ～ 14:00（30件） 13P 分子動力学法によるCu基板へのCoクラスターの堆積に関する研究 （電気通信大学）○寺嶋一浩，新谷一人 14P シリコン基板上に堆積した酸窒化ランタン絶縁膜の熱的安定性 （成蹊大学大学院）○川田宣仁，伊藤正彦，齋藤洋司 15P 三フッ化塩素ガスを用いた微小ハニカム状テクスチャ処理結晶系シリコン太陽電池の作製 （成蹊大学大学院）○山崎英雅，小菅雄史，土橋善之助，門馬正，齋藤洋司 16P ガラス基板の大気圧プラズマ処理における濡れ性向上効果の電極依存性 （成蹊大学大学院，㈱ヒューズ・テクノネット*）○吉川崇，大久保祐，須崎三徳*，津田欣範*， 齋藤洋司 17P 真空蒸着法を用いたシリコン基板上への酸窒化ランタン絶縁膜の形成 （成蹊大学大学院）○伊藤正彦，川田宣仁，齋藤洋司 18P 高周波スパッタにより結晶系シリコン上に堆積させた酸窒化反射防止膜の評価 （成蹊大学大学院）○上戸隆行，山崎英雅，門馬正，齋藤洋司 19P 窒素・酸素混合ガスを用いた大気圧プラズマによるトルエン分解における副生成物制御 （成蹊大学大学院）○大久保祐，五十嵐哲治，福永泰助，齋藤洋司 20P 三フッ化塩素処理したシリコン基板表面の反射率に与える熱プロセスの影響の検討 （成蹊大学大学院）○成田昌平，山崎英雅，門馬正，齋藤洋司 21P ゾル－ゲル法によるイットリウムをドープしたチタン酸バリウムストロンチウム薄膜の作製と評価 （成蹊大学大学院）○宮内良彰，岡田亮治，尾崎義治，齋藤洋司 22P ポリテトラフルオロエチレン (PTFE)－ポリビニルアルコール (PVA) 複合薄膜の摩擦特性と金属 基板との密着性：焼成温度の影響 （金沢大学大学院）○溝口允章，岩森暁 23P フッ素系高分子材料をターゲットとして作製したスパッタ高分子薄膜 （金沢大学大学院，㈱ナカイテクノ*）○毛塚和哉，上村彰宏*，岩森暁 24P ゴム基板上に形成したポリテトラフルオロエチレン（PTFE）真空蒸着膜 （金沢大学大学院）○北拓也，岩森暁 25P イオンビームスパッタリング法による酸化パラジウム複合薄膜の成膜と評価 （東京工業高等専門学校，東海大学*，㈱ティーディーワイ**）○一戸隆久，正木進，岩瀬満雄*， 川崎宏一** 26P 浮上式直接窒化法で合成したAlN粉末の低温焼結 （新潟大学）○大栗雅人，齋藤紀子，染谷千昭，戸田健司，堀田憲康 27P 酸化タンタル粉末の流動層還元反応による非酸化物系微粉末の合成 （新潟大学）○齋藤紀子，大栗雅人，尾崎歩，戸田健司，堀田憲康 28P 酸化ニオブ粉末の流動層還元反応による非酸化物系微粉末の合成 （新潟大学）○瀬山博之，尾崎歩，大栗雅人，戸田健司，堀田憲康 29P 酸素－水蒸気雰囲気中におけるFeCrAl(Pd, Pt, Au, Lu)合金の高温酸化 （湘南工科大学，東北大学金属材料研究所*）○椎野篤，天野忠昭，小原和夫*，宍戸統悦* 30P 紫外レーザーを用いたシリコーンの表面改質 （関東学院大学大学院，防衛大学校*，関東学院大学**）○関根大介，大越昌幸*，井上成美*， 山下嗣人** 31P カーボンブラックをテンプレートとする多孔質アルミナの調製と特性 （横浜国立大学大学院）○金子達人，目黒竹司，多々見純一，脇原徹，米屋勝利 32P フェロセン添加フェノール樹脂系炭素を出発原料とする活性炭の電気二重層キャパシタ特性 （横浜国立大学大学院）○天岡俊和，目黒竹司，多々見純一，脇原徹，米屋勝利 33P Mn-Co-Ni系硝酸塩混合物の低温焼成による酸化物の作製とその電気的特性 （横浜国立大学大学院）○横山隆，藤川博康，石川友洋，岡崎慎司，目黒竹司，多々見純一， 脇原徹，米屋勝利 34P Mn1.75Co0.375Ni0.875O4スピネル型単一相焼結体の調製とその電気的特性 （横浜国立大学大学院）○横山隆，村田祐伍，岡崎慎司，目黒竹司，多々見純一，脇原徹， 米屋勝利 35P CoO2平面を有する層状オキシ硫化物半導体Sr2-xCu2CoO2S2の電子物性 （慶應義塾大学大学院，産業技術総合研究所*）〇遠藤太郎，池田和磨，伊藤花奈，的場正憲， 鬼頭聖* 36P 強相関電子状態計算による磁性半導体(Zn,Ni)Oの物性予測 （慶應義塾大学大学院，出光興産㈱*）〇小川直人，池田和磨，水谷眞*，的場正憲 37P ゾル－ゲル法によるポリベンゾオキサジン/シリカ複合体の作製とシリカ前駆体の影響 （豊橋技術科学大学）○富安悠一，Tarek Agag，竹市力 38P 高分子量ポリベンゾオキサジン前駆体の合成と硬化物の性質 （豊橋技術科学大学）○有働将，竹市力 39P Ni-W合金皮膜作製におけるカチオン種の影響 （関東学院大学大学院，関東学院大学）○石川大介，山下嗣人* 40P 水酸化カリウムによるカーボンブラック賦活の電気二重層容量 （関東学院大学大学院，横浜国立大学大学院*，(有)環境技術サービス**）○鈴木慎也，山下嗣 人，天岡俊和*，目黒竹司*，桑垣整** 41P 低パワー密度レーザ加工におけるプルーム封じ込めによる除去性の向上 （千葉工業大学）○溝尾和明，宮﨑俊行，徳永剛，三須直志 42P 金属粉末を用いたレーザによる造形加工 （千葉工業大学，職業能力開発総合大学校*）○林輝之，宮﨑俊行，徳永剛，水上洋太* 午後 口頭発表 13:30 ～ 17:10 （17件） 13:30 ～ 14:42 43 アルミニウム陽極酸化被覆の摩擦特性 （物質・材料研究機構）○笠原章，後藤真宏，土佐正弘 44 FeCrAl(Pt, Y)合金の耐高温酸化性 （湘南工科大学，東北大学金属材料研究所*）○天野忠昭，椎野篤，小原和夫*，宍戸統悦* 45 紫外非線形光学応用フッ化物単結晶BaMgF4の育成と評価 （物質･材料研究機構）〇島村清史，E.G.Villora，竹川俊二，北村健二 46 有機EL材料Alq3薄膜の蒸着条件と電流特性 （慶応義塾大学大学院）○小川聡志，本村玄一，太田英二 47 強磁場を用いた配向性アルミナの作製と機械特性 （物質・材料研究機構）○鈴木達，打越哲郎，森田孝治，平賀啓二郎，目義雄 48 スプレー熱分解法による高配向酸化すず膜の初期形成過程 （静岡大学，ローム㈱*，㈱SPD研究所**）○村上健司，中島清文*，福田安生，金子正治** 14:42 ～ 14:50 休憩 8分 14:50～16:02 49 パルス通電焼結によるFe基FRMの作製 （鹿児島大学大学院生，福岡県工業技術センター*，鹿児島大学大学院**）○丸野智仁， 前田康志，小野本達郎*，末吉秀一** 50 キシレン樹脂の熱反応により得られたカーボンの微細構造 （長崎総合科学大学）○藤井光広，山邊時雄 51 A286析出強化型超合金の高温高サイクル疲労特性 （物質・材料研究機構）○小林一夫，山口弘二，早川正夫，木村恵 52 ポリマーシート上への酸化物薄膜形成 （物質・材料研究機構，産業技術総合研究所*）○白幡直人，目義雄，穂積篤* 53 電気泳動堆積法による非導電性セラミック基材上へのセラミック粒子堆積膜の形成 （物質・材料研究機構）○打越哲郎，古海誓一，鈴木達，目義雄 54 FePtCuナノ粒子分散グラニュラー薄膜の作製と磁気抵抗効果 （慶應義塾大学大学院）○岡本崇生，籔内真，太田英二 16:02 ～ 16:10 休憩 8分 16:10～17:10 55 バナジウムドープZnO薄膜の作製と評価 （慶應義塾大学大学院）○蔀拓一郎，薮内真，太田英二 56 表面修飾ZnTeナノ粒子を用いたポリマー系ナノコンポジットの作製 （慶應義塾大学大学院）○乾智絵，藏裕彰，佐藤徹哉，大喜田尚紀，多加谷明広，小池康博， 拓植洋祐，白鳥世明 57 光ファイバセンサを用いた高温管のAEモニタリング （青山学院大学大学院，青山学院大学*）○早野智晴，松尾卓摩，長秀雄*，竹本幹男* 58 隙間腐食のAEモニタリング （青山学院大学大学院，青山学院大学*）○近藤美紗子，松尾卓摩，米津明生*，長秀雄*，竹本 幹男* 59 メタクリル酸2‐エチルヘキシルを液成分とした骨セメントの検討 （工学院大学大学院）○近藤雄飛，小野悟士，小山富久，永井正洋，門磨義則，宮入裕夫， 塩田一路，高久田和夫 | ||
| 問 合 先 |
日本材料科学会 学術講演大会係
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平成18年度講演募集